0

中国电科48所8英寸碳化硅外延设备获升级

9月5日,中国电科在官微透露,中国电科48所自主研发的8英寸碳化硅外延设备关键技术再次获得突破。

据悉,此次“全新升级”的8英寸碳化硅外延设备,具备更快、更好、更稳定的特点,通过改进激光视觉定位、晶圆自纠偏等技术,设备自动化性能更加成熟,提升产品生产效率。设备还成功引入新的掺杂技术,进一步提升产品良率,持续降低生产成本。

湖南省科技事务中心还透露,中国电科48所研发的8英寸设备在6英寸设备的基础上进行创新,其外延层的厚度以及掺杂浓度的均匀性,都得到极大的提升:8英寸生长厚度均匀性小于1.5%,掺杂浓度均匀性小于4%,表面致命缺陷小于0.4个/cm2 

推荐

全部
原创

热门

全部
原创