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10月20日,光模块研发制造商武汉恩达通科技有限公司(简称恩达通)与东湖高新区签订合作协议,在东湖综保区建设恩达通总部及全球

华芯半导体科技有限公司112Gbit/s PAM4 VCSEL芯片的研发项目获批立项。

华芯半导体科技有限公司112Gbit/s PAM4 VCSEL芯片的研发项目获批立项。

据成都发布消息,莱普科技全国总部暨集成电路装备研发制造基地项目将于今年年底前完工。目前该项目正处于内外装施工阶段,预计今

张北县年产8亿件高端碳化硅半导体研发基地项目建设“不打烊”。

9月5日,中国电科在官微透露,中国电科48所自主研发的8英寸碳化硅外延设备关键技术再次获得突破。据悉,此次全新升级的8英寸碳化

国家第三代半导体技术创新中心(南京)历时 4 年自主研发,成功攻关沟槽型碳化硅 MOSFET 芯片制造关键技术,打破平面型碳化硅 MOSFET 芯片性能“天花板”,实现我国在该领域的首次突破。

导体项目、安力科技第三代半导体及大硅片衬底研磨液项目、全芯微电子半导体高端设备研发制造基地项目、辽宁恩微芯片封装测试项目、雅克科技球形硅微粉、球形氧化铝项目,日本航空电子高端电子元器件项目、露笑科技第三代功率半导体(碳化硅)产业园项目和大尺寸碳化硅衬底片研发中心项目迎来新进展。

盛美上海于临港举行“盛美半导体设备研发与制造中心试生产仪式” 。

从中国科学院上海微系统与信息技术研究所获悉,该所狄增峰研究员团队研发出面向二维集成电路的单晶氧化铝栅介质材料人造蓝宝石。

据报道,7月30日,香港科技园公司与麻省光子技术(香港)有限公司签署合作协议,将于香港科学园内设立全香港首个第三代半导体氮化

7月25日,北京经济技术开发区(北京亦庄)碳化硅功率芯片IDM企业北京芯合半导体有限公司(以下简称芯合半导体)发布自主研发生产

中国科学院半导体研究所郑婉华院士团队联合北京大学彭超杰青团队等,基于光子晶体面发射激光器(Photonic Crystal Surface Emitting Laser, PCSEL)实现了电注入有源激光空间光束扫描。

6 月 18日,瑞萨电子与南京芯干线科技在举行战略合作签约仪式,宣布建立数字电源联合实验室,共同打造高效率、高功率密度的数字

合盛硅业董事&合盛新材料总经理浩瀚表示,合盛新材从2018年开始正式进军碳化硅产业,目前公司已完整掌握了碳化硅材料的原料合成、晶体生长、衬底加工以及芯片外延等全产业链核心工艺技术,突破关键材料(多孔石墨、涂层材料)和装备的技术壁垒,6英寸衬底和外延片已得到国内多家下游器件客户的验证,8英寸衬底研发进展顺利。

中国光谷5月20日消息显示,日前,武汉普赛斯电子股份有限公司(简称普赛斯电子)暨全资子公司武汉普赛斯仪表有限公司(简称普赛

西安8英寸高性能特色工艺半导体生产线项目,晶旭半导体二期项目、深圳腾彩半导体产链研发制造项目、华虹制造(无锡)项目等半导体相关项目有新进展

4月16日,国家重点研发计划单片集成GaN基可调控Micro-LED发光器件研究项目启动暨实施方案论证会在济南召开。山东大学副校长芦延

3月4日,北京顺义消息显示,顺义区21个在建市区重点产业项目全部复工复产,其中包括泰科天润建设公司总部、研发中心及8英寸SiC功

据云塔科技消息,1月15日,中国科学技术大学微电子学院孙海定教授牵头的国家重点研发计划战略性科技创新合作重点专项基于第三代

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